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工業(yè)測量顯微鏡的功能及應用

時間:2022-11-23 10:40:32 來源: 點擊:

  

  顯微鏡是一種多功能光學測量儀器,廣泛應用于電子元件、液晶模塊、半導體、電路板、精密模具、精密工具、彈簧、塑料、橡膠、油封止閥、相機部件、汽車PCB加工等領(lǐng)域。

  本文帶您深入了解工業(yè)測量顯微鏡MM功能和應用4030。

  高精度工具顯微鏡MM4030工具顯微鏡采用精密光柵系統(tǒng)作為測量元件,具有熱值低、耐腐蝕、耐污染、耐沖擊等優(yōu)點:

 ?、俟ぞ唢@微鏡采用高精度光柵尺作為測量裝置,用于快速高精度測量位置,提高檢測效率;

 ?、谟袛?shù)顯分度臺和測高設(shè)備,XY全數(shù)顯化的方向和高度,直觀、方便;

 ?、劬哂袕姶蟮膱D像處理軟件,可完成復雜的測量工作;

 ?、苋鎽谜彰餮b置LED冷光燈,熱值低,使用壽命長;它結(jié)合了金相顯微鏡和圖像測量儀的高倍觀察力X,Y,Z軸面尺寸檢測功能。

  自動邊緣檢測:

  軟件采用數(shù)字圖像技術(shù),自動識別輪廓邊界,減少人為偏差,提高操作效率;

  放置樣品后可以開始測量-不需要平行對齊樣品:

  根據(jù)樣品可以設(shè)置起點和X軸,這樣即使樣品沒有與載臺對齊,也可以測量。

  四種觀察工業(yè)測量顯微鏡的方法:

  一、暗場觀察:

  樣品表面垂直照射光束,適用于金屬,IC,電路板觀察;

  二、暗場觀察:

  光源傾斜到樣品表面,適用于PCB油墨顏色,刮痕縫隙觀察;

  三、偏光觀察

  通過將一般光改為偏振光進行透鏡檢查,以確定一種物質(zhì)是單映射(各向異性)或雙折射(各種)。雙折射性是晶體的基本特征。偏光顯微鏡廣泛應用于礦物、化學半導體材料、纖維等領(lǐng)域;

  四、微分干預(DIC)觀察

  利用兩束光源通過光學系統(tǒng)中的相位變化進行相互干預,從而增強樣品對比度。用于觀察液晶模塊的壓力焊接顆粒、硅片和金屬組織。觀察到的表面有明顯的凹凸感,呈浮雕狀??梢燥@示樣品成分之間的相對水平關(guān)系,用于顆粒、裂紋和孔洞;


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